第九十五章 狂热(1/2)
老板工作间。
一个又一个的零件被打磨了出来。
得心应手地操控着小黑,工业加工方面,卫明不断创造出精度的极限。
只要先制造出一批精确度达到0.1纳米的“尺子”。
再根据这些尺子,加工所需要的零件,建立一套可以参考对照的精准体系。
如果出现累积误差,就手动修正一番,让整体的误差范围不会超过1纳米。
甚至卫明会亲自参与到耗费时间极多的“组装”过程中,利用小黑的扫描半径,其他操作手至少得半小时才能装好的一个零件,他3分钟内就能实现精确安装。
并且修正了许多地方的安装误差。
让系统的稳定性大大提高。
让13个精确的子系统,逐渐变成了一个能进行精确联动的大系统。
于是接下来的半个月。
光刻机研发部,刷新了一个又一个数据记录,每天都有爆发般的欢呼,从厂房里发出。
“锡滴释放频率每秒5万次,持续工作秒。”
“每秒5万次,持续工作秒!”
“每秒5万次,持续工作秒!”
“每秒5万次,持续工作秒……接近一个小时,光源系统磨合到完美程度,这是不可能被超越的一个极限!”
不过还有一个极限,不是不能突破。
“既然我们的光源系统稳定性这么高,索性,我们不做复杂麻烦的‘纠偏系统’算了,再往里面加入一组光源,构成‘双光源系统’,光刻机正常使用的情况下,只让一组光源进行工作,每次工作半个小时,另一组光源进入休息调整状态,半小时后接替工作,轮流换班,减少累积误差。”
“此外这台机器还有一个‘狂暴模式’,那就是让两套光源系统,同时投入工作,每秒10万粒的锡滴,20万次的击打,产生超过1250瓦强度的极紫外光,这个光强是艾思迈光刻机250瓦的5倍之高,比普通DUV光刻能量也强悍的多。”
“狂暴模式下,这台光刻机每小时至少能处理600片以上的晶圆,艾思迈只能处理125片,我们的效率能高四五倍!”
“而且能量越高,光刻出的清晰度、锐利度也越高,这能明显提高芯片的质量和良率,减少多重曝光的次数,更容易实现3纳米芯片的制造,帮助我们从开始的7纳米,越过中间的5纳米,快速过渡到最新的3纳米,实现跳跃式的发展!”
蒲伟才的技术团队中,一位名叫罗聪的研究员,提出了一个叫“狂暴模式”的构想。
他这个构想的天才之处,一方面彻底砍掉了“纠偏系统”这个大麻烦。
另一个,“狂暴模式”的种种优势之处,又令人呼吸加重,眼里射出精光。
当然,“狂暴模式”也有缺陷,那就是对散热系统提出了更高的要求,五倍的能量强度,意味着要散去五倍以上的热量。
蒲伟才简单计算一番就得出结果:为防止系统过热,狂暴模式最多只能持续3~5分钟,除非每分钟用掉1万升以上的冷却水,才可能延长些许时间。
但就算如此,这个模式依然有巨大的实用价值。
所以包括蒲伟才在内,都支持加入这个模式,再增强系统散热能力,让“狂暴模式”至少能持续10分钟左右。
于是又接下来的半个月。
工厂内的大多数工程师,都围绕着“双光源系统”、“狂暴模式”、“加强散热”而忙碌着。
为了加快进度,所有人都主动提出了加班的请求,要求延长工作时间,哪怕没有加班费。
更有不少人买了睡袋,累了就休息几个小时,连续数天才洗一个大澡。
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